多晶硅片清洗高浓度臭氧水机

技术参数

型号	MTS-CYS-1T	MTS-CYS-2T	MTS-CYS-4T	MTS-CYS-6T	MTS-CYS-10T
臭氧水浓度(mg/L)	3-20	3-20	3-20	3-20	3-20
额定输出水量（m3/h）	1	2	4	6	10
臭氧水浓度(mg/L)	20-50	20-50	20-50	20-50	20-50
工作电压（V）	220	220	380	220	220
电源频率（Hz）	50	50	50	50	50
最大功率（KW）	1.2	1.5	2.6	3.6	4.5
环境相对湿度 (%)	≤80	≤80	≤80	≤80	≤80
环境温度 (℃)	5-40	5-40	5-40	5-40	5-40
环境气压 (KPa)	86-106	86-106	86-106	86-106	86-106
额定输出水压（MPa）	0.3	0.3	0.4	0.4	0.4
进水压力 (MPa)	0.15	0.15	0.15	0.15	0.15
机器净重 (Kg)	100	120	150	200	260

一、产品特点：

1、臭氧水浓度高达50PPM（mg/L）

2.采用多年研发高浓度板式臭氧放电系统，臭氧出口浓度高达300mg/L；

3、产品内部采用独创微纳米高效臭氧混合系统，直接与水混合出高浓度臭氧水

4、高效混合泵使臭氧利用率高达80% 以上；

5、全自动智能控制，按键即可控制机器工作，产生高浓度臭氧水，快捷安全      

6、管路采用卫生级不锈钢管件，耐压力、耐腐蚀

7、不锈钢外壳， 易擦洗， 卫生防腐。 耐臭氧。

8、体积小，噪音低，产量稳定。

 

二：多晶硅片清洗试验数据：

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

通过本方法将臭氧水应用于太阳能电池用硅晶片的制作工艺中，清洁工艺中去除了94%以上的无机物(微入口者)，残留有机物进一步去除了45%，从而确认了臭氧清洁工艺的适用性。但是，虽然对产品质量没有太大影响，但由于外观原因影响产品价格的硬脂酸污染的去除实验中，长期搁置的部分多晶硅晶片也没有被去除，但研究结果表明，在硅锭的硅片工艺中立即应用臭氧水清洗工艺，可以更有效地去除硬脂酸污染。

 

 

三、高浓度臭氧水体机设备原理 

采用先进的物理制氧原理，通过制氧塔的变压吸附作用，在常温常压下直接将空气中的氧和氮分离，取得高纯度的氧气；然后采用电晕放电法获取臭氧，在常压下使含氧气体在交变高压电场作用下产生电晕放电生成臭氧；通过气液混合系统进行水和臭氧的混合后，得到一定浓度的臭氧水.

 

 

四、内置核心部件介绍

（一）内置制氧机

内置臭氧专用制氧机采用纳米分子筛技术，利用空气作为原料，通过分子塔生成高浓度氧气．氧气浓度在 93%以上。 采用了适合臭氧环境的耐腐蚀材料。增加了多级除湿装置，适合臭氧高湿环境。设备发热件和压缩空气经过深度冷却，设备温升低，适合连续稳定运行。整个设备耐 腐蚀，耐潮湿，温升低，可连续 24小时稳定运行。

内置制氧机特点

① .耐腐蚀，适合臭氧环境。 和普通制氧机、医用制氧机相比，采用了很多耐臭氧腐蚀材料，能在臭氧环境下长期使用。

② .耐潮湿，适合潮湿环境。 和普通制氧机相比，采用了三级除湿措施。包括第一级深冷自动排水，第二级除湿分子筛，第三级制氧分子筛除湿。前两级除湿保护了制氧分子筛，延长了制氧分子筛寿命，适合水处理环境潮湿场合。

③ .温升低，适合连续稳定运行。 采用了空气深冷技术和深度散热技术，设备温升和传统制氧机相比，由传统制氧机的环境温升 15-20℃大幅降低到3-5℃。

④ .内置无油压缩机，免维护。 制氧机内部采用了免维护的无油压缩机。不需要经常维护。

⑤ .以空气为原料，制氧成本低。 制氧机以空气为原料，物理方法制氧，日常没有消耗材料。制氧成本基本上就是电费和定期维护费，和氧气瓶相比，氧气成本非常低。

⑥ . 氧气浓度高，没有杂质和水气： 氧气浓度可达 93%以上。制氧机内置过滤材料，可过滤空气中的杂质和水气。